Çin’in yarı iletken sektöründe şimdiye kadarki en büyük teknolojik sıçramalardan birini gerçekleştirmiş olabilir. Reuters’in haberine göre ülke, ilk yerli EUV (aşırı ultraviyole) litografi prototipini geliştirmeyi başardı. Eski ASML bileşenleriyle geliştirilen Çin EUV prototipinin 2030’a kadar çip üretimine ulaşması bekleniyor.
Çin, çalışan bir EUV prototipi üretmeyi başardı
Çin, son teknoloji çiplerin üretimi için elzem olan EUV teknolojisinde atılım yapmak için uzun süredir yoğun çaba harcıyor. SMIC gibi şirketler, ASML’nin teknolojisini tersine mühendislik yoluyla çözmeye ve bu alandaki uzmanları kendi bünyelerine çekmeye çalışıyordu. Görünüşe göre bu çalışmalar sonuç vermeye başladı. Haberde, Çin’in geliştirdiği EUV prototipinin tamamen çalışır durumda olduğu ve wafer işleme için gerekli UV ışığını üretebildiği belirtiliyor.
Ancak bu ilerlemeye rağmen, sistemin hala eski ASML makinelerinden alınmış parçalara bağımlı olduğu da vurgulanıyor. Bununla birlikte, Çin’in özellikle Batılı tedarikçilerin ürettiği hassas optik sistemleri kopyalama konusunda hala büyük teknik zorluklarla karşı karşıya olduğu vurgulanıyor. Buna karşın, bu kadar kısa sürede kaydedilen ilerleme birçok kişi için şaşırtıcı olarak değerlendiriliyor.
Teknolojiye beklenenden erken ulaşabilir
Nisan ayında ASML CEO’su Christophe Fouquet, Çin’in bu seviyede bir teknolojiyi geliştirmesinin çok uzun yıllar alacağını söylemişti. Ancak Reuters’ın ilk kez gündeme getirdiği bu prototip, Çin’in yarı iletkenlerde bağımsızlığa beklenenden daha erken yaklaşmış olabileceğini gösteriyor.
EUV litografi makineleri son derece karmaşık sistemler içeriyor ve Çinli mühendislerin bu prototipte tam olarak hangi yöntemi kullandığı henüz bilinmiyor. Habere göre mühendisler, büyük ölçüde eski ASML ekipmanlarından elde edilen parçalarla ilerledi. Ancak prototip henüz çip üretim aşamasına gelmedi. Buna rağmen kaynaklar, Çin’in 2030 civarında EUV’yi yaygın şekilde kullanabilir hale gelebileceğini belirtiyor. Bu takvim, Çin’in ABD ile yarı iletken yarışında ne zaman yetişebileceğine dair önceki tahminlerden oldukça erken.
Yapay zeka alanındaki hızlı büyüme, Çin’de yerli çiplere olan ihtiyacı daha da artırmış durumda. Huawei gibi şirketler, SMIC ile iş birliği içinde tesis ağları kurarak üretim kapasitesini artırmaya çalışıyor. SMIC’nin, karşı karşıya olduğu teknolojik kısıtlamalar nedeniyle geliştirdiği ve ana akım 5nm süreçlere rakip olarak gösterilen N+3 üretim süreci de bu çabanın bir göstergesi. Şu aşamada, Çin’in EUV makinesinin özellikle ışık kaynağı ve diğer teknik parametrelerinin nasıl çalıştığına dair daha fazla bilgiye ihtiyaç var. Ancak tüm belirsizliklere rağmen, bu gelişme Çin yarı iletken endüstrisi açısından son derece önemli bir adım olarak değerlendiriliyor.
Kaynak : https://www.donanimhaber.com/cin-den-buyuk-atilim-ilk-euv-makine-prototipini-uretmeyi-basardi–199829
