Son dönemde küresel yarı iletken sektöründe büyük yankı uyandıran Çin’in ASML’nin EUV litografi makinesini kopyaladığı iddiaları, görünüşe göre gerçeklikle pek örtüşmüyor. İlk başta ASML’nin en kritik ve en ileri teknolojisi olarak görülen EUV (Aşırı Ultraviyole) litografi sistemlerinin Çin tarafından gizlice tersine mühendislik yöntemiyle çözüldüğü öne sürülmüştü. Ancak ortaya çıkan tablo, bu söylentilerin büyük ölçüde abartıldığını gösteriyor.
İddialar abartılı
Aktarılan bilgilere göre, Çin’de geliştirildiği iddia edilen söz konusu EUV sistemi, işlevsel bir üretim aracı olmaktan oldukça uzak. Kaynaklar, bu prototipin farklı kanallardan temin edilmiş, birbiriyle tam uyumlu olmayan parçaların bir araya getirilmesiyle oluşturulmuş olduğunu belirtiyor. İkinci el ekipman satışları ve çevrim içi yedek parça pazarlarından sağlandığı düşünülen bileşenlerle oluşturulan bu sistemin, bugüne kadar tek bir çip dahi üretemediği ifade ediliyor.
Bu durumun temel nedeni, EUV litografi teknolojisinin olağanüstü karmaşıklığı. ASML’nin Twinscan NXE platformu, tek bir teknik çizim ya da kolayca kopyalanabilecek bir tasarımdan ibaret değil. Aksine, ABD, Avrupa ve Japonya merkezli binlerce tedarikçinin onlarca yıla yayılan ortak Ar-Ge çalışmasının ürünü olarak öne çıkıyor. Hassas optikler, ultra yüksek vakum sistemleri, gelişmiş kontrol yazılımları ve teşhis araçları gibi birçok kritik bileşen farklı şirketlerin sahip olduğu özel bilgi birikimiyle üretiliyor. Parçaları bir araya getirmek bile yetmiyor
Bu tedarik zincirinin en kritik halkalarından biri, ASML’nin 2012 yılında bünyesine kattığı ABD merkezli Cymer. Cymer’in geliştirdiği EUV ışık kaynağı, CO2 lazerle oluşturulan plazma üzerinden 13,5 nanometre dalga boyunda ışınım üretimine dayanıyor. Donanımın fiziksel olarak kopyalanması teorik olarak mümkün görünse bile, yüksek hacimli üretimi sürdürebilmek için gerekli olan özel yazılımlar olmadan sistemin çalışması imkansız kabul ediliyor. Bu seviyede bir yazılım-donanım entegrasyonunu ise bugüne kadar ASML dışında hiçbir yapı başaramadı.
EUV teknolojisinin bir diğer aşılması güç engeli ise optikler. Tüm EUV sistemleri, Carl Zeiss tarafından üretilen molibden-silikon çok katmanlı aynalara bağımlı. Bu aynalar, aşırı morötesi ışığı neredeyse kayıpsız yansıtmak zorunda ve Zeiss, bu optikleri üretebilen dünyadaki tek şirket konumunda bulunuyor. Uzmanlara göre, bu aynaların yeniden üretilebilmesi için malzeme bilimi ve ölçüm teknolojilerinde yıllar sürecek atılımlar gerekiyor. ASML’nin mühendislik başarısı yalnızca parçaları bir araya getirmekle sınırlı değil. Şirket, binlerce özel alt sistemi tek bir makinede senkronize ederek nanometre ölçeğinde doğruluğu yüksek hızda koruyabilen bir yapı oluşturuyor. Bu bilgi birikiminin önemli bir kısmı, ASML’nin tedarikçileri ve araştırma ortakları arasında dağılmış durumda.
Buna rağmen Çinli çip üreticileri tamamen eli kolu bağlı değil. SMIC gibi firmaların, ASML’nin daha eski nesil DUV (Derin Ultraviyole) litografi sistemlerini yenilenmiş modüller ve ikinci el performans verileriyle güncellediği bildiriliyor. Bu yöntemle DUV makinelerinin kullanım ömrü uzatılırken, ileri üretim süreçlerinde verimlilik sınırlı da olsa artırılabiliyor. Ancak bu çözümler, modern bir EUV platformunun sunduğu kapasite ve hassasiyetin yanına dahi yaklaşamıyor.
Sonuç olarak Çin’in EUV litografi alanında bir atılım yaptığı yönündeki iddiaların, mevcut veriler ışığında gerçeği yansıtmadığı bildiriliyor. Ortada çalışan bir sistem ya da üretilmiş bir çip bulunmazken, EUV teknolojisinin halen ASML ve onun benzersiz ekosisteminin tekelinde olduğu belirtiliyor.
Kaynak : https://www.donanimhaber.com/cin-in-calinti-euv-makinesi-henuz-tek-bir-cip-bile-uretemedi–200247
